semiwiki5 months agoStochastic Pupil Fill in EUV Lithography➀ EUV光刻受随机效应影响,导致吸收光子数量变化,可能产生缺陷;➁ EUV系统的随机照明角度导致光子分布不均,造成图像偏移和精确光刻图案的挑战;➂ 减少pupil填充可以缓解随机失真,但会严重限制光刻系统的吞吐量。EUV LithographyPhoton DistributionPupil FillStochastic EffectsThroughput